芯片政策再放宽 台积电0.18微米获准西进 |
新年伊始,台湾半导体代工业者获知:自2006年12月29日起,台半导体代工企业投资大陆8英寸晶圆的制程技术,将由0.25微米放宽至0.18微米。 “我们非常欢迎这一决定,公司正在积极拟定进一步投资大陆的计划。”1月3日,台积电新闻发言人曾晋晧接受记者采访时说。作为首家“受惠”企业,台积电长达两年的赴大陆投资0.18微米制程技术申请,终于获得批准。 《说明》称,2002年,台湾“行政院”决定开放8英寸晶圆赴大陆投资政策,是参考了《瓦森纳协议》以及美国限制0.25微米以上制程技术的科技管制规范。2004年12月《瓦森纳协议》做出了修正,将半导体制程设备管制由0.35微米放宽至0.18微米,美国政府也已修改其出口管制清单——0.18微米以上制程不再受管制,台湾有必要放宽现行0.25微米限制,保持与国际规范同步。 更重要的考虑是基于对台湾半导体产业发展。《说明》进一步解释,目前,台湾半导产业水平已大幅提升:拥有10座12英寸晶圆代工厂,占全球四分之一;制程技术则普遍进入90纳米和65纳米世代,与0.25微米有四个世代之隔,因此,开放0.18微米以上制程,对台湾半导体业影响“微乎其微”。 与此同时,大陆已普遍使用0.18微米至0.13微米技术制程,并已进入90纳米时代。由于大陆芯片设计企业超过半数已经运用0.18微米到0.13微米技术进行数码产品设计,台“政府”限制在大陆投资厂商仅能运用0.25微米制程技术,已经明显影响台湾晶圆厂在大陆市场的竞争力。 《说明》还指出,2005年大陆半导体市场产值超过350亿美元,是全球成长最快的市场。 台积电首批获准 在此期间,台积电位于大陆的竞争对手获得了充分的技术追赶时间。以大陆最大晶圆代工厂中芯国际为例,过去两年间,该公司的生产工艺已从0.25微米迅速提升至0.13微米,采用更为先进的90纳米工艺生产的芯片产品也已于2006年第三季度开始量产。中芯国际三季度财报显示,在逻辑产品方面,中芯国际采用0.25微米技术制程生产的产品比重仅为17.2%,采用0.18微米制程及以下技术的产品比重超过80%。 与之相比,目前台积电在上海松江仅拥有一个8英寸晶圆生产厂,采用较为低端的0.25微米制程技术。 对于禁令取消后是否会增加在大陆的投资,台积电新闻发言人表示目前正在积极规划,还没有成型的方案。台积电之前从台湾“政府”获得的3.71亿美元投资配额已经用完,如需向大陆追加投资,需要向当局递交新的申请。 分析人士认为,台积电设于上海松江的工厂将会启用0.18微米工艺。今年上半年台积电已将其台湾Fab7的部分8英寸产能向松江工厂转移,后者现在可月产3万块晶圆。届时,台积电位于松江工厂的产能将得到大幅提升。 此外,倪兆明认为,台湾芯片代工龙头企业的全面西进,必将全面带动上游材料工业的跟进。目前,芯片代工所需的设备和材料90%来自海外。 在带动国内芯片产业规模的同时,业内人士也认为,台企的加入,将打破国内芯片代工业竞争格局。目前,我国大陆共有47条芯片生产线,其中12英寸2条,8英寸10条,6英寸12条,5英寸9条,4英寸14条。台企8英寸线的大规模西进,将加剧目前较为成熟的6英寸和8英寸代工市场竞争。 (源自:中国电子元件行业协会) |